华兴源创获得实用新型专利授权:“一种可调节真空吸附区域的滚筒”
发布日期:2024-06-11 03:09    点击次数:173

本站消息,根据企查查数据显示华兴源创(688001)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种可调节真空吸附区域的滚筒”,专利申请号为CN202321791126.6,授权日为2024年3月12日。

专利摘要:本实用新型提供一种可调节真空吸附区域的滚筒,包括若干用以吸附固定膜片的吸附孔;所述滚筒内形成有若干沿滚筒的轴向依次排列的环状内腔;所述吸附孔与对应位置的环状内腔连通;所述吸附孔可在滚筒表面形成多个沿滚筒的轴向依次排列的环状吸附区域。该滚筒能够通过调节真空吸附区域的大小来兼容不同尺寸的产品。

今年以来华兴源创新获得专利授权34个,较去年同期减少了34.62%。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公司在研发方面投入了1.9亿元,同比增8.83%。

数据来源:企查查

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